支援実績

2020年度[令和2年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 東京医科歯科大学
F-20-RO-0060: ナノワイヤバイオセンサーの作製
2020年度[令和2年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 広島大学
F-20-RO-0061: Siの異方性エッチングを用いた100ミクロンスケールの微小孔の作製
2020年度[令和2年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 広島大学
F-20-RO-0062: 光学干渉非接触温度測定(OICT)を用いたSi-nMOSFET動作時の温度変化の測定
2020年度[令和2年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 広島大学
F-20-RO-0063: a-Si:H薄膜を用いた脈波センサーに関する研究
2020年度[令和2年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 広島大学
F-20-RO-0064: プラズマCVDによるアモルファスシリコン堆積時の瞬間加熱に関する研究
2020年度[令和2年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 奈良先端科学技術大学院大学
F-20-RO-0065: 連続発振レーザ結晶化法による非晶質基板上への多結晶シリコン薄膜形成
2020年度[令和2年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 広島大学
F-20-RO-0066: ボトムゲート型TFT作製プロセスにおけるソース・ドレインとゲート間のオフセット制御に関する研究
2020年度[令和2年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 広島大学
F-20-RO-0067: 大気圧マイクロ熱プラズマジェットを用いた微量SiドープGe膜の結晶化に関する研究
2020年度[令和2年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 広島大学
F-20-RO-0068: SOI層を用いたイオン感応性電界効果トランジスタの作製
2019年度[令和元年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: (株)シナジーテクニカ
F-19-RO-0001: Arガスを用いたプラズマエッチング量の調査
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 三菱ケミカル(株)
F-19-RO-0002: ラザフォード後方散乱測定装置を用いた無機系の蒸着膜の組成分析
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 東北学院大学
F-19-RO-0003: ダブルゲート・ジャンクションレスn-ch多結晶ゲルマニウム薄膜トランジスタの開発
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 東北学院大学
F-19-RO-0004: 負性容量4端子poly-Si TFTの開発
2019年度[令和元年度] (A) 共同研究
支援依頼機関: 広島大学
F-19-RO-0008: 分子性金属酸化物をコートしたSiO2薄膜の電気化学特性の評価および製造プロセスの検討
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 広島大学
F-19-RO-0009: 太陽電池の製作
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 広島大学附属高等学校
F-19-RO-0010: 太陽電池の製作と基礎実験
2019年度[令和元年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: (株)フィルネックス
F-19-RO-0011: 半導体薄膜接合技術の応用研究
2019年度[令和元年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 広島大学
F-19-RO-0012: 金属ナノパターンによる光波制御
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 久留米工業高等専門学校
F-19-RO-0013: 有機トランジスタの試作
2019年度[令和元年度] (A) 共同研究
支援依頼機関: 京都工芸繊維大学
F-19-RO-0014: 金属ナノ粒子標的に対するスパッタリング収率の入射イオンエネルギー依存性
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 京都大学
F-19-RO-0015: p型シリコンへのリンの拡散およびボロンのイオン注入
2019年度[令和元年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 広島大学
F-18-RO-0016: 微生物を分離培養する新規なデバイスの開発
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 広島大学
F-19-RO-0018: 低温成長 GaAs 系混晶半導体の熱処理前後の評価
2019年度[令和元年度] (E) 技術補助
支援依頼機関: Hanoi National University of Education
F-19-RO-0019: Multi-Peak Metamaterial Perfect Absorber with Connected Square Rings
2019年度[令和元年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 広島大学
F-19-RO-0020: 低温成長GaAs系混晶半導体の表面形状の観察
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 名古屋大学
F-19-RO-0021: GeコアSi量子ドット発光デバイスの開発
2019年度[令和元年度] (A) 共同研究
支援依頼機関: 広島国際大学
F-19-RO-0022: 電子顕微鏡による含水サンプルの観察のためのDLC薄膜の開発
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 広島大学
F-19-RO-0023: 低温で成長した数原子層 As 系化合物半導体の組成解析
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 九州大学総合理工学府
F-19-RO-0024: スピンデバイス開発に向けた横型スピンバルブ素子の作製
2019年度[令和元年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 広島大学
F-19-RO-0027: 低温成長GaAs系混晶半導体の導電性制御
2019年度[令和元年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 広島大学
F-19-RO-0029: フォトクロミック金属酸化物の蓄電性能の確認
2019年度[令和元年度] (E) 技術補助
支援依頼機関: 広島大学
F-19-RO-0030: ビチオフェンジオン系ポリマーにおける構造異性体が電荷輸送特性に与える影響
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 広島大学
F-19-RO-0032: 非加熱プロセスでの酸化ニッケル膜の作製
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 大島商船高等専門学校
F-19-RO-0034: CMOS NAND回路による半加算器
2019年度[令和元年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: (株)SUMCO
F-19-RO-0037: CMOS 論理回路
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 静岡大学
F-19-RO-0038: 大面積プラズモニック基板の作製
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 筑波大学
F-19-RO-0039: スパッタ法により形成した薄膜太陽電池材料の組成比制御
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 東京医科歯科大学
F-19-RO-0040: ナノワイヤバイオセンサーの作製
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 九州工業大学
F-19-RO-0042: ダイヤモンド薄膜の色中心に関する研究
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 東北学院大学
F-19-RO-0043: SIMS分析によるGeのCu金属誘起固相成長のメカニズムの解明
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 静岡大学
F-19-RO-0044: 高空間分解能イオンセンサーの開発
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 京都工芸繊維大学
F-19-RO-0045: イオン照射によるプラスティック上導電性DLC形成技術の研究
2019年度[令和元年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 広島大学
F-19-RO-0048: セレン化銅薄膜の熱電特性
2019年度[令和元年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 広島大学
F-19-RO-0049: 硫化銅系薄膜の熱電特性
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 島根大学
F-19-RO-0050: 単結晶粒 Si/Ge 薄膜トランジスタの作製
2019年度[令和元年度] (E) 技術補助
支援依頼機関: 広島大学
F-19-RO-0051: 分子性金属酸化物を用いたキャパシタ型デバイスの開発および特性評価
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 岡山大学
F-19-RO-0052: 金属ナノ粒子の形成を目指した、脂質膜を反応場とする化学還元法の開発
2019年度[令和元年度] (A) 共同研究
支援依頼機関: 大阪大学
F-19-RO-0053: 透明基板上GeSn発光・受光素子の開発
2019年度[令和元年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 広島大学
F-19-RO-0054: 細菌による重金属イオン回収およびその副産物のキャラクタリゼーション
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 東北学院大学
F-19-RO-0055: RTAによる強誘電体HfZrOxの形成
2019年度[令和元年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 量子科学技術研究開発機構
F-19-RO-0056: イオン注入による炭化ケイ素への単一光子源の生成
2019年度[令和元年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 北陸先端科学技術大学院大学
F-19-RO-0057: MEMSプロセスの技術面,教養面の支援
2019年度[令和元年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 広島大学
F-19-RO-0058: 薄膜評価用チップの作製を目的とした電子線描画装置の検討
2019年度[令和元年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 広島大学
F-19-RO-0059: アレイ化光リング共振器チップの光学特性評価
2018年度[平成30年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 大島商船高等専門学校
F-18-RO-0001: 溶射膜の高信頼化記述に関する研究
2018年度[平成30年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 島根大学
F-18-RO-0002: 単結晶粒Si/Ge 薄膜トランジスタの作製
2018年度[平成30年度] (B) 機器利用
支援依頼機関: 名古屋大学
F-18-RO-0003: GEコアSi量子ドット発光デバイスの開発
2018年度[平成30年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 広島大学
F-18-RO-0005: 単分子誘電体を組み込んだ FET 型トランジスタのプロトタイプ作製
2018年度[平成30年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: ローム株式会社
F-18-RO-0006: 酸化膜の深さ方向組成分析
2018年度[平成30年度] (C) 技術代行
支援依頼機関: 広島大学
F-18-RO-0007: フォトクロミック金属酸化物の作製とその特性評価
1 2 3 4 5 6 7 9