支援実績
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
筑波大学
F-21-RO-0001:
不純物をドーピングしたフェリ磁性体Mn4N膜の組成分析
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
広島大学
F-21-RO-0002:
チタンメンブレン粘膜表面側へのコラーゲンコーテイング方法の確立
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
広島大学
F-21-RO-0003:
電気化学的な金薄膜への銅の拡散現象の解析
2021年度［令和3年度］ (A) 共同研究
支援依頼機関：
九州大学
F-21-RO-0005:
ナノピクセルとハイメサ導波路によるセンシング光集積回路
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
東北学院大学
F-21-RO-0006:
強誘電体Hf1-ⅩZrⅩO2の融合による多結晶シリコン薄膜トランジスタの高性能化
2021年度［令和3年度］ (A) 共同研究
支援依頼機関：
京都工芸繊維大学
F-21-RO-0007:
MeVイオンビームによる単結晶SiO2の表面形態変化
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
量子科学技術研究開発機構
F-21-RO-0008:
SiCウェハのダイシング
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
島根大学
F-21-RO-0009:
PECVD膜への単結晶薄膜トランジスタ形成
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
広島大学
F-21-RO-0010:
太陽電池の製作
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
京都工芸繊維大学
F-21-RO-0011:
イオン照射によるプラスティック上導電性DLC 形成技術の研究
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
九州工業大学
F-21-RO-0013:
ダイヤモンド薄膜への高濃度色中心の作製に関する研究
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
大阪産業技術研究所
F-21-RO-0015:
非晶質合金膜中に含有された希ガス原子の存在状態の解明
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
高知工科大学
F-21-RO-0018:
SiC結晶中に生成された欠陥分布の測定
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
東北学院大学
F-21-RO-0019:
多結晶シリコンゲルマニウム薄膜トランジスタのゲルマニウム濃度依存性の解明
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
東北学院大学
F-21-RO-0020:
High-kゲート絶縁膜を利用した４T CLC poly-Si TFTのCMOS展開
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
広島大学附属高等学校
F-21-RO-0021:
太陽電池の製作
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
静岡大学
F-21-RO-0022:
CMOS R-S Flip-Flop回路
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
筑波大学
F-21-RO-0023:
RFスパッタ法で堆積したZnGe膜の組成分析
2021年度［令和3年度］ (B) 機器利用
支援依頼機関：
広島大学
F-21-RO-0025:
低エネルギー化を指向したセレン化銅系薄膜の作製と熱電特性
2021年度［令和3年度］ (B) 機器利用
支援依頼機関：
広島大学
F-21-RO-0026:
細菌が合成した化合物半導体結晶のキャラクタリゼーション
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
北陸先端科学技術大学院大学
F-21-RO-0027:
Ring Oscillator（17段）回路の作製と特性
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
静岡大学
F-21-RO-0028:
C-MOS Co-Doped Transistor and PN Diode 回路の試作と評価
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
東北学院大学
F-21-RO-0029:
二次元原子層物質MoS2薄膜トランジスタの開発
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
筑波大学
F-21-RO-0030:
電流駆動磁壁移動に向けたCoドープMn4N膜の組成分析
2021年度［令和3年度］ (A) 共同研究
支援依頼機関：
京都工芸繊維大学
F-21-RO-0031:
ナノ構造を用いた環境センサーの研究
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
名古屋工業大学
F-21-RO-0032:
SiCへのチャネリングイオン注入
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
高知工科大学
F-21-RO-0033:
水素添加酸化インジウム薄膜の水素濃度評価
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
筑波大学
F-21-RO-0034:
CoV2O4薄膜の組成比分析
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
山陽小野田市立山口東京理科大学
F-21-RO-0035:
多孔体高分子表面に集積した合金ナノ粒子の構造解析
2021年度［令和3年度］ (B) 機器利用
支援依頼機関：
広島大学
F-21-RO-0036:
金属グレーティングを具備したテラヘルツ波光伝導アンテナの開発
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
広島大学
F-21-RO-0037:
電子線露光によるライン＆スペースパターンの作製
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
名古屋大学
F-21-RO-0038:
カーボン薄膜の組成分析
2021年度［令和3年度］ (A) 共同研究
支援依頼機関：
(株)フィルネックス
F-21-RO-0039:
電子デバイス薄膜の異種材料接合技術の研究
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
ローム(株)
F-21-RO-0040:
ポーラス膜の相対密度評価
2021年度［令和3年度］ (A) 共同研究
支援依頼機関：
九州大学総合理工学府
F-21-RO-0042:
スピンデバイス開発に向けた横型スピンバルブ素子の作製
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
広島大学
F-21-RO-0043:
絶縁膜の信頼性評価用パターン作製
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
筑波大学
F-21-RO-0045:
同時スパッタ法により形成した薄膜太陽電池材料の組成比評価
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
九州工業大学
F-21-RO-0046:
３次元パワーSoC実現に向けてのプロセス技術の開発
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
名古屋大学
F-21-RO-0047:
アモルファスカーボンの高品質化に関する研究
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
久留米工業高等専門学校
F-21-RO-0048:
OFETの試作
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
広島大学
F-21-RO-0049:
低温成長GaAs系半導体の結晶性と電気的特性の評価
2021年度［令和3年度］ (B) 機器利用
支援依頼機関：
広島大学
F-21-RO-0050:
InAs(Bi)量子ドットの表面形状の観察
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
広島大学
F-21-RO-0051:
酸化ニッケル電極での電池反応の調査
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
量子科学技術研究開発機構
F-21-RO-0052:
2次元薄膜窒化ホウ素へのイオン注入法による室温スピン操作可能な新規スピン欠陥の創製
2021年度［令和3年度］ (A) 共同研究
支援依頼機関：
東京医科歯科大学
F-21-RO-0053:
Siナノワイヤバイオセンサーの作製
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
九州工業大学
F-21-RO-0055:
MEMS技術を用いた機能性表面の創製
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
京都大学
F-21-RO-0056:
ｐ型シリコンへのリンの拡散およびボロンのイオン注入
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
東北学院大学
F-20-RO-0001:
RTAを用いた強誘電体HfZrOxの形成と評価
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
広島大学
F-20-RO-0004:
酸化ニッケル膜で起こるフォトクロミズム現象の分析
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
京都大学
F-20-RO-0006:
ｐ型シリコンへのリンの拡散およびボロンのイオン注入
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
三菱ケミカル(株)
F-20-RO-0007:
ラザフォード後方散乱測定装置を用いたSi系蒸着膜の組成分析
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
コニカミノルタ(株)
F-20-RO-0008:
圧電MEMSによる超音波トランスデューサの研究
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
ローム(株)
F-20-RO-0009:
酸化チタンの元素分析
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
京都工芸繊維大学
F-20-RO-0010:
イオン照射によるプラスティック上導電性DLC形成技術の研究
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
京都工芸繊維大学
F-20-RO-0011:
イオン照射によりプラスティック上に形成されるDLC層の構造解析
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
京都工芸繊維大学
F-20-RO-0012:
イオン照射によるプラスティック上でのDLC層形成メカニズムの解明
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
ローム(株)
F-20-RO-0013:
YSZの元素分析
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
東北大学
F-20-RO-0014:
絶縁膜の信頼性評価用パターン作製
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
住友重機械工業(株)
F-20-RO-0015:
SiCのオーミック接触形成
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
広島大学
F-20-RO-0017:
電子線露光によるライン＆スペースパターンの作製