支援実績
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
名古屋大学
F-21-RO-0038:
カーボン薄膜の組成分析
2021年度［令和3年度］ (A) 共同研究
支援依頼機関：
(株)フィルネックス
F-21-RO-0039:
電子デバイス薄膜の異種材料接合技術の研究
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
ローム(株)
F-21-RO-0040:
ポーラス膜の相対密度評価
2021年度［令和3年度］ (A) 共同研究
支援依頼機関：
九州大学総合理工学府
F-21-RO-0042:
スピンデバイス開発に向けた横型スピンバルブ素子の作製
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
広島大学
F-21-RO-0043:
絶縁膜の信頼性評価用パターン作製
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
筑波大学
F-21-RO-0045:
同時スパッタ法により形成した薄膜太陽電池材料の組成比評価
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
九州工業大学
F-21-RO-0046:
３次元パワーSoC実現に向けてのプロセス技術の開発
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
名古屋大学
F-21-RO-0047:
アモルファスカーボンの高品質化に関する研究
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
久留米工業高等専門学校
F-21-RO-0048:
OFETの試作
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
広島大学
F-21-RO-0049:
低温成長GaAs系半導体の結晶性と電気的特性の評価
2021年度［令和3年度］ (B) 機器利用
支援依頼機関：
広島大学
F-21-RO-0050:
InAs(Bi)量子ドットの表面形状の観察
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
広島大学
F-21-RO-0051:
酸化ニッケル電極での電池反応の調査
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
量子科学技術研究開発機構
F-21-RO-0052:
2次元薄膜窒化ホウ素へのイオン注入法による室温スピン操作可能な新規スピン欠陥の創製
2021年度［令和3年度］ (A) 共同研究
支援依頼機関：
東京医科歯科大学
F-21-RO-0053:
Siナノワイヤバイオセンサーの作製
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
九州工業大学
F-21-RO-0055:
MEMS技術を用いた機能性表面の創製
2021年度［令和3年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
京都大学
F-21-RO-0056:
ｐ型シリコンへのリンの拡散およびボロンのイオン注入
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
東北学院大学
F-20-RO-0001:
RTAを用いた強誘電体HfZrOxの形成と評価
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
広島大学
F-20-RO-0004:
酸化ニッケル膜で起こるフォトクロミズム現象の分析
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
京都大学
F-20-RO-0006:
ｐ型シリコンへのリンの拡散およびボロンのイオン注入
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
三菱ケミカル(株)
F-20-RO-0007:
ラザフォード後方散乱測定装置を用いたSi系蒸着膜の組成分析
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
コニカミノルタ(株)
F-20-RO-0008:
圧電MEMSによる超音波トランスデューサの研究
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
ローム(株)
F-20-RO-0009:
酸化チタンの元素分析
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
京都工芸繊維大学
F-20-RO-0010:
イオン照射によるプラスティック上導電性DLC形成技術の研究
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
京都工芸繊維大学
F-20-RO-0011:
イオン照射によりプラスティック上に形成されるDLC層の構造解析
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
京都工芸繊維大学
F-20-RO-0012:
イオン照射によるプラスティック上でのDLC層形成メカニズムの解明
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
ローム(株)
F-20-RO-0013:
YSZの元素分析
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
東北大学
F-20-RO-0014:
絶縁膜の信頼性評価用パターン作製
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
住友重機械工業(株)
F-20-RO-0015:
SiCのオーミック接触形成
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
広島大学
F-20-RO-0017:
電子線露光によるライン＆スペースパターンの作製
2020年度［令和2年度］ (A) 共同研究
支援依頼機関：
(株)フィルネックス
F-20-RO-0020:
厚膜レジストのリソグラフィーテスト
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
広島大学
F-20-RO-0021:
低温成長GaAs系半導体の点欠陥評価
2020年度［令和2年度］ (E) 技術補助
支援依頼機関：
静岡大学
F-20-RO-0023:
C-MOS SRAM回路の設計と性能評価
2020年度［令和2年度］ (E) 技術補助
支援依頼機関：
静岡大学
F-20-RO-0024:
MOSFETS,CMOS Inverter & Junkctionless Transistors
2020年度［令和2年度］ (A) 共同研究
支援依頼機関：
京都工芸繊維大学
F-20-RO-0025:
高速軽イオンビームによるSiO2の表面改質と発光分光
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
住友重機械工業(株)
F-20-RO-0026:
SiCのオーミック接触評価
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
東北学院大学
F-20-RO-0027:
n-chダブルゲートpoly-Ge TFTの開発
2020年度［令和2年度］ (A) 共同研究
支援依頼機関：
広島大学
F-20-RO-0028:
中性子センサの研究
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
筑波大学
F-20-RO-0029:
薄膜太陽電池応用に向けたスパッタ法で作製したBaSi2膜の組成分析
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
量子科学技術研究開発機構
F-20-RO-0030:
2次元薄膜窒化ホウ素へのイオン注入法による室温スピン操作可能な新規スピン欠陥の創製
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
島根大学
F-20-RO-0031:
スパッタプロセスによるSi薄膜トランジスタ
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
広島大学
F-20-RO-0032:
電子線露光によるラインパターンの作製（2方向パターン）
2020年度［令和2年度］ (B) 機器利用
支援依頼機関：
広島大学
F-20-RO-0036:
金属グレーティングによるテラヘルツ波光伝導アンテナの性能向上
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
早稲田大学
F-20-RO-0039:
Fe電析膜の膜密度測定
2020年度［令和2年度］ (A) 共同研究
支援依頼機関：
広島大学
F-20-RO-0041:
蛍光体の照射
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
静岡大学
F-20-RO-0042:
大面積プラズモニック基板の作製
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
高知工科大学
F-20-RO-0043:
SiC 結晶中に生成された欠陥分布の測定
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
東北学院大学
F-20-RO-0044:
High-kの導入により高性能化した４端子CLC poly-Si TFTのEE、EDインバータ応用
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
広島大学附属高等学校
F-20-RO-0045:
太陽電池の製作と基礎実験
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
島根大学
F-20-RO-0047:
PECVD膜をチャネル層に用いた単結晶帯Si薄膜トランジスタ
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
岡山大学
F-20-RO-0048:
金属ナノ粒子の形成を目指した、脂質膜を反応場とする化学還元法の開発
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
広島大学
F-20-RO-0049:
InAs系積層量子構造の構造解析
2020年度［令和2年度］ (B) 機器利用
支援依頼機関：
広島大学
F-20-RO-0051:
細菌による重金属イオンの回収およびその副産物の構造解析・組成分析
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
量子科学技術研究開発機構
F-20-RO-0052:
SiCチップのダイシング
2020年度［令和2年度］ (C) 技術代行
支援依頼機関：
筑波大学
F-20-RO-0053:
薄膜太陽電池作製に向けた無アルカリガラス基板上におけるBaSi2膜の組成分析
2020年度［令和2年度］ (B) 機器利用
支援依頼機関：
広島大学
F-20-RO-0054:
シリコンナノ電子デバイスの作製
2020年度［令和2年度］ (B) 機器利用
支援依頼機関：
広島大学
F-20-RO-0055:
細菌が合成した化合物半導体結晶のキャラクタリゼーション
2020年度［令和2年度］ (B) 機器利用
支援依頼機関：
広島大学
F-20-RO-0056:
Investigate the characteristic of crystalline silicon film induced by micro thermal plasma jet
2020年度［令和2年度］ (B) 機器利用
支援依頼機関：
広島大学
F-20-RO-0057:
ゲルマニウム薄膜の電気特性に関する研究
2020年度［令和2年度］ (B) 機器利用
支援依頼機関：
広島大学
F-20-RO-0058:
大気圧熱プラズマジェットアニールを用いた4H-SiC MOSFET作製技術の研究
2020年度［令和2年度］ (B) 機器利用
支援依頼機関：
広島大学
F-20-RO-0059:
メニスカスカを用いた薄膜転写プロセス開発に関する研究