機器一覧

リソグラフィー

RO-111
超高精度電子ビーム描画装置 CR
エリオニクス(ELS-G100)
機能及び仕様 ポイントビーム方式,加速電圧25,50,75,100kV,最小線幅6nm,
対応ウェハ 2-6 インチ、カットウェハ
機器利用料(円/時間) 12,650
設置場所 CR東棟1F
RO-112
マスクレス露光装置 CR
ナノシステムソリューションズ(DL-1000)
機能及び仕様 デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)方式によるマスクレス露光, 最小線幅1μm,レーザ光源405nm 0.5W
対応ウェハ 2-4 インチ、カットウェハ他
機器利用料(円/時間) 6600
設置場所 CR東棟1F
RO-113
マスクレス露光装置 CR
ハイデルベルグ・インストルメンツ(MLA150)
機能及び仕様 デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)方式によるマスクレス露光, 最小線幅1μm,レーザ光源375nm 7.2W、バックアライメント対応
対応ウェハ 2-6 インチ、カットウェハ
機器利用料(円/時間) 8800
設置場所 CR東棟1F
RO-121
スピンコーター CR
タツモ(TMR6100)
機能及び仕様 レジスト等のスピンコーティング
対応ウェハ 2 インチ、カットウェハ
機器利用料(円/時間) 2200
設置場所 CR西棟1F
RO-131
レイアウト設計ツール
Tanner(L-Edit)
機能及び仕様 半導体デバイス, 集積回路, MEMSデバイス設計用ソフト
機器利用料(円/時間) 3300
設置場所 東棟

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